反應濺鍍氮化鉻薄膜之磨潤特性研究

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題名:	反應濺鍍氮化鉻薄膜之磨潤特性研究
作者:	簡錫新 Chien, H. H.
貢獻者:	機械工程學系 Mechanical Engineering
關鍵詞:	非平衡反應濺鍍;氮化鉻;CrN;磨潤特性非平衡反應濺鍍;氮化鉻;CrN;磨潤特性
日期:	2006
上傳時間:	2014-06-27 03:24:38 (UTC+8)
摘要:	本研究以非平衡反應濺鍍的方式將氮化鉻（CrN）薄膜鍍在M42的基材上，並探討基材偏壓對薄膜顯微組織、機械性質與磨潤特性的影響。研究結果顯示，當基材偏壓值小於60 V時，薄膜的韌性與耐磨耗特性都獲得改善，這是因為偏壓改善薄膜的沉積密度所致。當基材偏壓值大於60 V時，濺鍍原子撞擊基板能量過大，反而導致薄膜品質變差，使得氮化鉻薄膜的脆性與磨耗率增加。本研究以非平衡反應濺鍍的方式將氮化鉻（CrN）薄膜鍍在M42的基材上，並探討基材偏壓對薄膜顯微組織、機械性質與磨潤特性的影響。研究結果顯示，當基材偏壓值小於60 V時，薄膜的韌性與耐磨耗特性都獲得改善，這是因為偏壓改善薄膜的沉積密度所致。當基材偏壓值大於60 V時，濺鍍原子撞擊基板能量過大，反而導致薄膜品質變差，使得氮化鉻薄膜的脆性與磨耗率增加。
顯示於類別:	[機械工程學系] 研討會論文

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