Chung-Hua University Repository:Item 987654321/35113
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    题名: 反應濺鍍氮化鉻薄膜之磨潤特性研究
    作者: 簡錫新
    Chien, H. H.
    贡献者: 機械工程學系
    Mechanical Engineering
    关键词: 非平衡反應濺鍍;氮化鉻;CrN;磨 潤特性
    非平衡反應濺鍍;氮化鉻;CrN;磨 潤特性
    日期: 2006
    上传时间: 2014-06-27 03:24:38 (UTC+8)
    摘要: 本研究以非平衡反應濺鍍的方式將氮化鉻(CrN)薄膜鍍在M42的基材上,並探討基材偏壓對薄膜顯微組織、機械性質與磨潤特性的影響。研究結果顯示,當基材偏壓值小於60 V時,薄膜的韌性與耐磨耗特性都獲得改善,這是因為偏壓改善薄膜的沉積密度所致。當基材偏壓值大於60 V時,濺鍍原子撞擊基板能量過大,反而導致薄膜品質變差,使得氮化鉻薄膜的脆性與磨耗率增加。
    本研究以非平衡反應濺鍍的方式將氮化鉻(CrN)薄膜鍍在M42的基材上,並探討基材偏壓對薄膜顯微組織、機械性質與磨潤特性的影響。研究結果顯示,當基材偏壓值小於60 V時,薄膜的韌性與耐磨耗特性都獲得改善,這是因為偏壓改善薄膜的沉積密度所致。當基材偏壓值大於60 V時,濺鍍原子撞擊基板能量過大,反而導致薄膜品質變差,使得氮化鉻薄膜的脆性與磨耗率增加。
    显示于类别:[機械工程學系] 研討會論文

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    反應濺鍍氮化鉻薄膜之磨潤特性研究.pdf46KbAdobe PDF157检视/开启


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