| 题名: | 反應濺鍍氮化鉻薄膜之磨潤特性研究 |
| 作者: | 簡錫新
Chien, H. H. |
| 贡献者: | 機械工程學系
Mechanical Engineering |
| 关键词: | 非平衡反應濺鍍;氮化鉻;CrN;磨
潤特性
非平衡反應濺鍍;氮化鉻;CrN;磨
潤特性 |
| 日期: | 2006 |
| 上传时间: | 2014-06-27 03:24:38 (UTC+8) |
| 摘要: | 本研究以非平衡反應濺鍍的方式將氮化鉻（CrN）薄膜鍍在M42的基材上，並探討基材偏壓對薄膜顯微組織、機械性質與磨潤特性的影響。研究結果顯示，當基材偏壓值小於60 V時，薄膜的韌性與耐磨耗特性都獲得改善，這是因為偏壓改善薄膜的沉積密度所致。當基材偏壓值大於60 V時，濺鍍原子撞擊基板能量過大，反而導致薄膜品質變差，使得氮化鉻薄膜的脆性與磨耗率增加。
本研究以非平衡反應濺鍍的方式將氮化鉻（CrN）薄膜鍍在M42的基材上，並探討基材偏壓對薄膜顯微組織、機械性質與磨潤特性的影響。研究結果顯示，當基材偏壓值小於60 V時，薄膜的韌性與耐磨耗特性都獲得改善，這是因為偏壓改善薄膜的沉積密度所致。當基材偏壓值大於60 V時，濺鍍原子撞擊基板能量過大，反而導致薄膜品質變差，使得氮化鉻薄膜的脆性與磨耗率增加。 |
| 显示于类别: | [Department of Mechanical Engineering] Seminar papers
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