Nickel Nanocrystals Embedded in Metal–Alumina–Nitride–Oxide–Silicon Type Low-Temperature Polycrystalline-Silicon Thin-Film Transistor
for Low-Voltage Nonvolatile Memory Application

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题名:	Nickel Nanocrystals Embedded in Metal–Alumina–Nitride–Oxide–Silicon Type Low-Temperature Polycrystalline-Silicon Thin-Film Transistor for Low-Voltage Nonvolatile Memory Application
作者:	吳建宏 rossiwu
贡献者:	電子工程學系 Electronics Engineering
关键词:	Nickel Nanocrystals Polycrystalline-Silicon Thin-Film Transistor
日期:	2011
上传时间:	2014-07-01 10:32:48 (UTC+8)
摘要:	In this work, a nickel nanocrystal (Ni-NC) assisted metal–alumina–nitride–oxide–silicon (MANOS) thin-film transistor (TFT) nonvolatile memory (NVM) was fabricated by a standard low temperature polycrystalline silicon (LTPS) TFT process. The size range and
显示于类别:	[電子工程學系] 期刊論文

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