Chung-Hua University Repository:Item 987654321/32810
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    题名: 透過曝光機一致性(SMM)自動即時回饋系統改善曝光機之堆疊誤差
    作者: 林君明
    Lin, Jium-Ming
    贡献者: 通訊工程學系
    Communication Engineering
    关键词: Match;Overlay;Residual;Matching Matrix
    Match;Overlay;Residual;Matching Matrix
    日期: 2009
    上传时间: 2014-06-27 02:05:35 (UTC+8)
    摘要: 本研究是主要是討論利用高階補償改善各曝光機之一致性(Improve Scanner Matching),使用於半導體黃光製程生產機台,凿括光罩製作、標準校正晶片製作、黃光生產機台曝光機(Scanner)曝光程式之建立模式、堆疊對準(Overlay)量測機台量測程式之建立,分析黃光生產機台曝光機機台與機台間之一致性(Match)誤差量,提升產能利用率與產品之良率改善(Yield Improve)。利用現代化半導體無塵室,所擁有的資源與設備,搭配現有黃光製程設備之基礎,設計發展一套改善機台間之誤差的系統,以因
    This study is mainly focus on High-order compensation methods on matching result improvement by Lithography Exposure Scanner used on Semiconductor Lithography process, and those includes mask manufacturing, calibration reticle manufacturing, exposure reci
    显示于类别:[通訊工程學系] 研討會論文

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    透過曝光機一致性(SMM)自動即時回饋系統改善曝光機之堆疊誤差.pdf36KbAdobe PDF136检视/开启


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