成長曲線應用分析與探討-以奈米碳管場發射顯示器等為例

CHUR > College of Management > Department of Technology Management > Seminar Papers > Item 987654321/31945

Please use this identifier to cite or link to this item: http://chur.chu.edu.tw/handle/987654321/31945

Title:	成長曲線應用分析與探討-以奈米碳管場發射顯示器等為例
Authors:	賴以軒 franky
Contributors:	科技管理學系 Technology Management
Keywords:	專利;技術預測;成長曲線模型;灰色預測理論;奈米碳管場發射顯示器
Date:	2009
Issue Date:	2014-06-27 01:39:24 (UTC+8)
Abstract:	隨著科技產業的快速發展，以及智慧財產權的倍受重視，專利數量的成長早已被視為是產業或技術未來發展趨勢的領先指標，因此若能掌握專利資訊所帶來的訊息，進而預測未來的成長趨勢與發展動向，就能率先取得產業或技術的競爭優勢。本研究選定奈米碳管場發射顯示器(CNT-FED)技術之美國核准專利數量做為研究對象，利用成長曲線模型、迴歸分析與灰色預測理論等技術預測模型，進行奈米碳管場發射顯示器專利數量之預測，再以誤差分析方法進行驗證，藉此判斷各個預測模型其預測效果之良窳。本研究所使用的三種技術預測模型中，以成長曲線模型之技術
Appears in Collections:	[Department of Technology Management] Seminar Papers

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
s_m530_0800.pdf		60Kb	Adobe PDF	116	View/Open